光電光學玻璃用超純水設備主要是在玻璃清洗的時候為超聲波清洗進行供水，確保產水水質在18.2MΩ.cm，從而滿足試驗用水需求，這是因為在光電光學的玻璃行業中，通過超聲波清洗鏡片是為了保證鏡片的通透程度。

研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數企業的加工過程中會有漆片，其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物，根據鏡片的材質及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉，在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕，玻璃研磨過后，需要用超純水進行產品的清洗，以獲得高品質的產品。

而源水中含有大量的懸浮物、顆粒物、以及離子物質，會導致在使用超聲波清洗的過程中污染和劃傷鏡片，從而導致鏡片清晰度不夠，而滲源給超聲波提供的超純水設備，采用了雙級反滲透+EDI工藝，可以有效去除原水中的顆粒物質和污染物，確保最終的出水水質能夠達到18.2MΩ.cm，設備采用PLC+智能觸摸屏控制，全自動化處理能夠保證系統的穩定性。